中国第一yi台光刻机；中国第一台光刻机诞生

芯 东西xi（ID：aichip001）文wen | 董温淑

现xian在，5nm制程芯片作为目前qian可量产的最先进芯片，将是顶ding级手机的标配，也是摩尔定ding律真正的捍卫者。年内将推出的华为Mate 40采用的de麒麟1020芯片、苹果iPhone 12搭载的A14仿生芯片pian不出意外，都会hui采用5nm制程。

不少证zheng据正在证实这一点，3月份fen，有爆料称台积电成功流片麒qi麟1020；4月yue份，台积电宣布为苹果代工A14芯片；在近期的中美贸易摩擦中，台积ji电是否能按时向华为出货Mate 40芯片也ye着实让人捏了一yi把汗。这一连串事件之zhi中，为两大手机龙头代工芯片的台tai积电成为关键角色，举足之zhi间关系着华为手机ji芯片供应的命运。

然而， 台积电能吃chi下苹果、华为的5nm订单dan，背后还少不了一家jia荷兰厂商的存在 ：芯片制造zao要想突破10nm以yi下节点，必须要用到daoEUV（极紫外线）光刻ke技术，而 EUV光刻机只有荷兰公司阿斯麦（ASML）能造 。不论是5nm量产赛道第一yi名台积电，还是第二名三星，想造zao出产品，就只能先乖乖guai向阿斯麦订货。

作为全球5nm产chan线不可或缺的狠角色，阿斯麦到底是一家什么样的公司？

我们不妨先理li解“光刻”这项技术的重要性。如ru果把芯片比作刻版画。芯片pian生产的过程就是在硅衬底这张“纸”上，先涂上一层名为光刻ke胶的“油墨”，再用光线作zuo“笔”，在硅衬底上“拓”出需要的图案，然后用化学xue物质做“刻刀”，把图案雕diao刻出来。

其qi中，以光线为“笔”、拓tuo印图案这一步被bei称为光刻。在芯片制造几百道工序xu里，光刻是芯片生产中最重要yao的步骤之一。图案线条的粗细程度直接jie影响后续的雕刻步骤zhou。目前市场上主流的光刻技术是DUV（深紫外线）技术，最先xian进的则是EUV技术。

完wan成这一步需要用到的设备——光刻机，一台售价从数千万美元高至zhi过亿美元。要知道，美国最先进的第五wu代战机F-35闪电II式的售价还不bu到8000万美mei元。

放眼全球qiu，光刻机市场几乎被bei3家厂商瓜分：荷兰的阿斯si麦（ASML）、日本的尼康（Nikon）和佳能（Canon）。

在这3家中zhong，阿斯麦又是当之无愧kui的一哥。据中银国际报告， 阿斯麦全quan球市场市占率高达89% ！其余两家的份额分别是8%和he3%，加起来仅有11%。 在EUV光刻机市场中，阿斯麦的市占率则是100% 。

要指出的是，阿a斯麦并非生来就含着zhe金汤匙。阿斯麦mai成立于1984年，入局光刻机市场晚wan于尼康（1917年成立，1980年nian发售其首款半导体光刻机）和佳jia能（1937年成立，1970年推tui出日本首台半导体光guang刻机）。成立之初，阿斯麦mai只有31名员工，还曾面mian临资金链断裂的窘境。

36年间，这家几近jin破产的小公司是怎样成cheng长为光刻机一哥的？又是如何在十多年里占据第di一宝座屹立不倒的？今jin天，智东西就来复盘pan这家荷兰光刻机之星xing的逆袭之路。

更为重要的一点，在美国狙击华hua为芯片供应的组合拳里li，阿斯麦间接或直zhi接地成为一颗关键棋qi子，美国人凭什么限制阿斯麦的生意yi，背后又有怎样的渊源？

在zai郁金香国度荷兰的de南部，坐落着一个居民min人数20余万的市镇，艾恩德de霍芬，阿斯麦（Advanced Semiconductor Material Lithography，直译：先进半导体材料liao光刻技术）总部就位于此。

阿斯麦是一家采用“无工厂模式”的光刻设备生产商，主zhu要产品就是光刻机，还提供服fu务于光刻系统的计量和检jian测设备、管理系统tong等。

翻开全球芯片厂商的光刻机订ding货单，其中绝大多数都发给了阿斯麦mai。以2019年为例，阿斯麦共gong出货229台光刻ke机，净销售额为wei118.2亿欧元，净利润为25.2亿欧元。相比之下，尼康出货46台，佳能出货84台。

▲阿斯麦、尼ni康、佳能出货量对比

除了出货量liang占优，阿斯麦（ASML）也代表着全球最顶尖的光guang刻技术。在阿斯麦2019年nian卖出的229台光刻机中，有26台是当今最高端的EUV（极紫外线）光刻机。而在EUV光刻ke市场，阿斯麦是唯wei一的玩家。

EUV光刻机采用13.5nm波长的光源，是突破10nm芯xin片制程节点必不可少的de工具。也就是说，就算DUV（深shen紫外线）光刻机能从cong尼康、佳能那里找到dao替代，但如果没有阿斯麦mai的EUV光刻机，芯片巨头台tai积电、三星、英特尔的5nm产线就无法投产。

时间迈进jin2020，光刻机市shi场三分的格局中，阿斯麦已稳居第一10多年。在“光刻机一哥”光guang环的背后，阿斯麦又有you怎样的故事？

智东西从技术路lu线选择、先进技术攻关、资金支zhi持、研发投入等方fang面入手，还原出这个故事真实、立体的脉络。

罗马不是一yi天建成的，阿斯麦的成功也绝非一蹴而er就。今日风头无两的光刻机市场一哥背bei后，是一个卑微的开始和一段曲折的de往事。

故gu事要从20世纪80年代讲起qi，那时候距离摩尔定律被正式提出chu（1975年）不到10年，增加芯片晶体管guan数目还不是让全球半导体学者zhe挤破头的课题。相应地di，对光刻机光源波长的要yao求较低。当时的光刻机采cai用干式微影技术，简言之，光guang源发光，光线在涂有光刻胶的硅gui基底上“画”就完了。

比如，1980年尼康推出chu的可商用步进式重复fu式光刻机（Stepper），光源波长为1微米mi。连芯片厂家英特尔也ye自己设了个光刻机部bu门，用买来的零件组装光刻ke机。

通俗来lai说，步进式重复光刻机ji的工作原理是使shi涂有光刻胶的硅片与掩yan膜板对准并聚焦，通过一次ci性投影，在晶圆片上刻画电路。

▲尼康1980年推出的光刻机NSR-1010G

在这种背bei景下，荷兰电子产品公司飞利li浦在实验室鼓捣出了步进式扫sao描光刻技术的雏型xing，但拿不准这项技术shu的商业价值。思前想后，它决定拉人入伙，让合作者继续研yan发，这样既有人分摊tan成本，也给了自zi己观望的机会。

步进式扫描光刻ke技术的原理是，光线透过guo掩膜板上的狭缝照射，晶圆与掩yan膜板相对移动。完成当前qian扫描后，晶圆由工作zuo台承载，步进至下一步扫描位置，进jin行重复曝光。整个过程经jing过重复步进、多次扫描曝pu光。

▲步bu进式扫描光刻技术示意图

在飞利浦的设想里，理想的合伙人当然是技术先进、实力雄厚的美国大厂chang，如IBM、GCA之zhi流。但在美国走zou了一圈后，飞利浦意识shi到了现实的骨感：各大厂商纷fen纷表示拒绝。

但是，并非所有人都不看好飞利浦pu的光刻项目，就在飞fei利浦碰壁之际，荷兰小xiao公司ASMI（ASM International，直译为ASM国际）的老板Arthur Del Prado跑来，自荐要接下xia飞利浦的光刻项xiang目。

▲Arthur Del Prado

ASM International创立于1964年，是一家jia半导体设备代理商，对制造光刻ke机并无经验。因此，飞利li浦犹豫了1年的时间。最zui终，1984年，飞利浦选择“屈就”，同意与ASMI公gong司各自出资210万美元，合资成立li阿斯麦，由这才开启了le阿斯麦的故事。

阿斯麦首任CEO为Gjalt Smit，任职时间为1984～1988年。据称，由于阿斯麦成cheng立初期知名度较低，Gjalt Smit曾在未wei经授权的情况下xia在阿斯麦招聘广告中使用飞利浦的标志zhi。

▲阿斯麦创chuang始初期CEO Gjalt Smit

2013年至今，阿a斯麦总裁兼CEO由Peter Wennink担任。Peter Wennink早在1999年就加入ru了阿斯麦，曾担任ren过执行副总裁、首席财务wu官等职。在加入阿斯麦之前，Peter就职于全球四大会计师事务所之zhi一的德勤会计师事务所。

▲现任阿斯si麦总裁兼CEO Peter Wennink

其实，在与飞利li浦合资成立阿斯麦之前约10年的1975年，ASMI就jiu曾在香港开设办公室。最初，ASMI香港办公室只zhi负责销售，随着时间jian推移，该办公室发展出了生产能力li。1988年，ASMI在香xiang港办公室的基础chu上成立了新公司ASMPT（ASM PACIFIC Technology，直译为weiASM太平洋技术shu）。到今天，ASMPT已成长为全球最大的半导体ti组装和封装技术供应商之一。

作为站在阿斯麦mai、ASMI、ASMPT背后的de操盘手，Arthur Del Prado成为一代dai业界传奇，被誉为“欧洲半导体设备行业之父”。2016年，这位传奇人物以85岁高gao龄逝世，但与他ta渊源颇深的三家半导体公gong司仍在创造新故事。Arthur的长子Chuck Del Prado，于2008年接替Arthur继任为ASMI CEO，并于yu2019年退休。ASMI现任CEO是Benjamin Loh。ASMPT现任CEO是Robin Ng。

回到阿a斯麦的故事，飞利浦同意出资210万wan美元成立阿斯麦mai，但拒绝提供更多资金和办公场地。成立之初的阿斯si麦只有31名员工gong，由于没有办公室，这31名员工就窝wo在飞利浦大厦外的de简易木板房里办公。当dang时， 飞利浦绝不会想到dao，这个几乎被当作“弃子”的项xiang目和退而求其次选xuan择的小公司，孕育出的是能把尼康拉la下马的光刻机新星。

▲垃圾车后面mian就是阿斯麦成立之初的简jian易木板屋，其后的大厦是飞利li浦大厦

如前所说，20世shi纪80年代还是光刻机的技术红hong利期。在干式微影技术的技术shu路线下，阿斯麦成立的第一年就造zao出了步进式扫描光刻机jiPAS 2000。 但是，技术的红利期很快就会过去，之后发生的一切会造就光guang刻机市场的新格局。

▲阿斯麦于1984年推出的PAS 2000

进入21世纪，为了延续摩尔定律，人们men改进了晶体管架构方式，但光刻机光源yuan波长卡在了193nm上。这zhe造成的后果是光刻“画”出的线条tiao不够细致，阻碍晶体管架构的实现xian。要解决这个问题，最直接的de方式就是把光源波长缩短，比如尼康、SVG等厂商试图采用157nm波长的光线。

实shi践中，实现157nm波长的光刻机并bing不容易。首先，157nm波长的光线极易被193nm光刻机使用的镜片吸收；其次，光刻胶也要重新研发；另外，相比bi于193nm波长，157nm波长进jin步不到25%，回报率较jiao低。但在当时，这似乎是shi唯一的办法。

到了2002年，时shi任台积电研发副经jing理林本坚提出：为什么非要改变波bo长？在镜头和光刻胶之间加一yi层光线折射率更好的介质zhi不就行了？那么什么介质能增加光的折she射率呢？林本坚说，水就可ke以。与干式光刻技术相对，林本坚jian的技术方案被称为浸没式shi光刻技术。经过水的de折射，光线波长chang可以由193nm变为132nm。

时间再往回推15年（1987年），林本坚就职于IBM，那时他就有了浸没式光刻技术的想xiang法。2002年芯片制zhi程卡在65nm之际，林本坚看到dao了浸没式光刻技术的机会。为wei了解决技术难题、消除厂商疑虑，林本坚花费半年时间带dai领团队发表3篇论文。

当时，业界质疑水shui作为一种清洁剂，会把ba镜头上的脏东西洗出来，还有人ren担忧水中的气泡、光线xian明暗等因素会影响折射she效果。根据林本ben坚团队的研究，他们提出了一种曝pu光机，可以保持水的洁净jing度和温度，使水不起气泡。虽然这种zhong曝光机并未在实际中被采用，但林本ben坚的研究证明了技ji术上的难题是可以被解决jue的。

他还亲自奔赴美mei国、日本、德国、荷兰等地，向光刻机ji厂商介绍浸没式shi光刻的想法。但是，有能力li进行研发的大厂普pu遍不买账。

▲林本坚

个中原因yin也不难理解，自20世纪60年代起，玩家jia入局光刻机市场，在干式光刻技术上投tou入了大量财力、人力、物力，好不容易踏出一yi条可行的技术路线。如果按照林lin本坚“加水”的想法，各位前qian辈就得“一夜回到解放前”，从cong技术到设备重新 探索 。很hen少有人舍得这么高的沉chen没成本。但是，“很hen少有人”不代表“没有人”。

奔波到dao荷兰后，林本坚终于听到了一yi个好消息： 阿斯麦mai愿做这第一个吃螃bang蟹的勇士 。2003年10月份，ASML和台积电dian研发出首台浸没式光刻设备——TWINSCAN XT：1150i。2004年，阿斯麦的de浸没式光刻机改进成熟。同年，尼康宣布了157nm的干式光刻机和电子束投射产品样机ji。

但dan是，一面是改进成熟的132nm波长新技术，一面是shi157nm波长的样机，胜sheng负不言而喻。

数据显示，在2000年之前的16年里，ASML占据的市场份额不足10%。2000年后，阿斯麦市场chang份额不断攀升。 到2007年，阿斯麦市场份额已经超过尼康，达到约60%。

当命运之神把浸没式光刻微wei影的机遇摆放到阿斯麦、尼康等玩wan家面前，只有阿斯麦勇敢地伸出手，而尼康则是成也干式微影、败也干gan式微影。 在全quan球光刻机市场这一回合的较量中，阿a斯麦选择了正确的技术路线，从而er赢得了后来居上的机会。

▲首台浸没式光刻设备——TWINSCAN XT：1150i

如果说推出浸没式光刻ke机让阿斯麦领先尼康一步，那么突破poEUV光刻技术则ze让它成为了名副其实的光刻ke机一哥。2010年至zhi今，EUV光刻市场中只有阿a斯麦一位玩家。

突破10nm节点能够gou带来的经济效益不bu必赘述，在众多duo玩家中，为什么me只有阿斯麦掌握了EUV光刻机的de核心技术？实际上shang，这与它集合了美国、欧洲的顶ding级科研力量有关。 这段故事还hai要从1997年讲起。

1997年，英特尔认识到跨越193nm波长的困难，渴望通过EUV来另辟蹊径。为了能从cong其他玩家处借力，英特尔说服了美国政zheng府，二者一起组建了一个ge名为“EUV LLC（The Extreme Ultraviolet Limited Liability Company，极紫外线有限责任公司）”的组织zhi。EUV LLC里li可谓是群英荟萃，商业力量liang有摩托罗拉、AMD、英特尔等，还汇hui集了美国三大国家实验室。

EUV LLC里li，美国成员构成cheng了主体。在对外国成员的选xuan择上，英特尔和白宫产生了分歧qi。英特尔看中阿斯麦和尼康在光guang刻机领域的经验yan，想拉他们入伙。但dan白宫认为如此重要的先进技术研发不bu该邀“外人”入ru局。

此时，阿斯麦显示出了惊人的de前瞻能力，它向美国guo表示：我愿意出资在美国建工厂和研发fa中心，并保证55%的原材料都从美国采购，只求你们研yan究EUV一定要带我wo玩。

如此诚意让rang美国难以拒绝，就这样，阿a斯麦成为EUV LLC里唯二er的两家非美国公司之一，另一家是shi德国公司英飞凌。

反观尼康，这一次ci则完全是吃了国籍的亏。1998年发表的文件《合作研发协议和半导体ti技术：涉及DOE-Intel CRADA的事宜》，写明了尼康kang被排除在EUV LLC外的de终极原因：“……有you人担心尼康会成功将技术转zhuan移到日本，从而消灭美国的光刻工业。”

1997年到～2003年，阿斯麦和世界顶级ji的半导体领域玩家聚集在EUV LLC，用了6年时间jian回答一个问题：EUV有可能实现吗ma？他们发现答案是肯定的。至此，EUV LLC使命ming完成，在2003年就地解散，其中各个成cheng员踏上独自研发之路。

其qi实，其他欧洲、日本、韩国的玩wan家也曾 探索 过EUV光刻技术。但是，他ta们的实力始终无法与汇集了le美国顶级科研实力的EUV LLC相比，这意味着zhe阿斯麦在EUV研发fa之路上占得先机。国际光电工gong程学会（SPIE）官网写出了EUV LLC的重要yao性：“如果不是EUV LLC对技术shu的形成和追求，EUV光刻ke技术就不会成为IC制造领域的未来lai竞争者。”

6年nian时间里，EUV LLC证明了用极紫外线作为光guang源造光刻机是可行的，但却没mei指出一条明路。到了2005年，EUV光刻机还是连个ge影子都没有，但巨额的研发资金jin、难以跨越的技术瓶颈已经足以让大多duo数玩家望而却步。但是，阿斯麦mai还是不肯死心，并且决定要牵头欧洲zhou的EUV研发项目。 如果说在EUV LLC中，阿斯麦是蜷juan缩在角落里等待dai被其他大玩家“带飞”，那这一次，阿斯麦则是要自zi己做领头雁。

研发过程cheng面临的困难无非集中在资金和he技术两方面，阿斯麦把它们逐个ge击破。缺钱？那就去找，阿斯si麦从欧盟第六框kuang架研发计划中拉来2325万欧元经费。缺技术？阿斯麦集合he3所大学、10个研究jiu所、15个公司联lian合开展了“More Moore”项xiang目，着力攻坚。

终于，2010年，阿斯si麦出货了首台EUV光刻机。这台光guang刻机型号为NXE：3100，被交付给台积电，用于进行研发。

至此，在EUV市shi场，阿斯麦已经做到dao了人无我有，接下来的问题就是shi产品的迭代和进化。2013年，阿斯麦收购了光源提供商shangCymer，为公司量产EUV设备打基础。经过几次升级，阿斯麦mai在2016年推出首台可量产的EUV光刻机NXE：3400B并获得订单。NXE：3400B售价约为1.2亿yi美元，从2017年第二季ji度起开始出货。直到dao今天，产品的迭代还hai在继续。根据阿斯麦的信息，EXE：5000系列光刻机样机最快kuai在2021年问世。

从1997年到2010年，13年的艰难求索，终于yu让阿斯麦攻克了EUV的de技术高地。辛勤付出终有回报， 目前qian，阿斯麦仍是唯一yi掌握EUV光刻技术的厂商shang。

▲阿斯麦的最新xinEUV光刻机TWINSCAN NXE：3400C

根据公开信息，一台EUV光刻机售价约为1.2亿美元，一台taiDUV光刻机的售价也要yao数千万美元。在高额e售价的背后，是前期qi研发阶段巨量的de资金投入。要支撑对光刻技ji术的研发，阿斯麦mai必须找到一条可持续的“财路”，否则就可能陷入困境。

事实上，阿斯麦也ye的确经历过“财政zheng危机”。1988年，阿斯麦进军jun台湾市场，还未来得及在新的de市场竞争中喘口气，老东家ASMI就因无法获得预期内的回报比作zuo出撤资决定。同时，由于当时全球qiu电子行业市场不乐观guan，飞利浦也宣布了一项成本削减计ji划。内外夹击之下，阿斯麦几近jin破产。好在危机时刻，时任ren阿斯麦CEO Gjalt Smit联系了飞利li浦董事会成员Henk Bodt，后者说服了飞利浦董事会hui，为阿斯麦拉来一笔约1亿美mei元的“救命钱”。

这笔bi资金帮助阿斯麦mai在进军台湾市场的初期站稳了脚。随后几年，阿斯麦mai凭借步进式扫描光刻机扭亏为盈，并于1995年3月15日在阿姆mu斯特丹和纽约证券交易所成cheng功上市，上市首shou日市值为约1.25亿美元。

▲Henk Bodt

为了能够获得充足的de资金支持，2012年，阿斯麦提出chu一项 “客户联lian合投资计划”（CCIP，Customer Co-Investment Program） ，简单来说，就是接受shou客户的注资，客户成为股东的de同时拥有优先订货权。这无wu疑是一个双赢的举措cuo：把阿斯麦的研发资金压ya力转移出去，让客ke户为先进光刻技术的研发买单，这样不仅使阿斯si麦无后顾之忧地进行研yan发，也保证了客户hu对先进光刻技术的优先使用权。

2012年，芯片制造行xing业3大龙头英特尔、台积电dian、三星都推出了le22nm芯片产品。CCIP计划一经jing推出，这3家公司纷纷fen响应。根据协议，英特尔斥资41亿美元收购荷兰lan芯片设备制造商阿a斯麦公司的15%股权，另出chu资10亿美元，支持阿斯麦加快kuai开发成本高昂的芯xin片制造 科技 。台积电投资8.38亿欧元，获取阿斯麦mai公司约5%股权。三星斥chi资5.03亿欧ou元购得3%股权，并额e外注资2.75亿欧元合作研发fa新技术。

最zui终，阿斯麦以23%的股权共筹得53亿欧元资zi金。要知道，2012年全年，阿斯麦的净销售shou额才约为47.3亿欧元。

在 科技 圈，研发fa、创新能力就是生命力。华为5G、芯片技术为什么强？任正zheng非曾在接受采访时表示，2020年华为将把约200亿美元（约合人ren民币1420亿元）花在研发上。而在研发方面，阿斯麦与华为wei一样“疯狂”。

早在2002年，阿斯si麦就敢向浸没式光刻技术押注zhu。到了今天，大力投资搞技术研yan发已经成为阿斯麦的传统。

根据2019年度财cai报， 阿斯麦全年投入ru了20亿欧元用于技术研发，占到dao净销售额（118.2亿yi欧元）的16.9% 。相比之下，2019年尼康在zai光刻系统上的投资为3.98亿日元，占到光刻ke系统营收（2397.28亿日元）的约0.17%。

2007年开始，“时年”13岁的阿a斯麦开始以领先的姿态傲然于yu光刻机市场，至今仍然如此。列出阿a斯麦近些年的研发投入，或能解jie释它这么多年来屹立不bu倒的原因。

▲近jin5年阿斯麦研发投入ru及营收情况

另ling外，在专利网站Patentscope上的搜索结果显示， 阿斯si麦申请的专利数目已经jing达到14444项 。阿斯麦虽sui然是一家商业公司，但支撑它ta走得更远的，不是对金钱的追求，而是shi对技术的长远投资。

回顾过去36年，阿斯si麦从一个蜷缩在木板房中的de小公司成长为一代dai光刻机巨擘，其中原因少不bu了 历史 的机遇，如ru林本坚适时提出了浸没式光guang刻技术的想法。但是，更具决定性意义的是阿斯麦准确que的前瞻和果断的选择，比如ru，在21世纪初，阿斯si麦放弃干式微影，转zhuan投浸没式光刻技术；再比如，早在zai1997年，阿斯麦以自身妥tuo协换来EUV LLC的入场券。对于商业与技术相互hu促进的关系，阿斯麦mai还有着深刻的理解，多年来对技ji术研发的大力投入，成为它屹立不倒dao的重要原因。手握顶尖的技术，阿斯si麦还获得了客户hu的支持，从而在全球光刻机市场中走得de更远。

以阿斯麦这36年的历程为鉴，对dui比我国。1977年，我国第di一台光刻机诞生，加工晶片直径为wei75毫米。今天tian，国产光刻机制造商有上海微电子、中zhong科院光电所等，最先进的de设备推进至22nm节点，而er国际最先进工艺已突破5nm节点。国产光刻机无疑还有很长的路要走。

芯片是“中国制造”的痛点。不论lun是近期华为被美mei国断供芯片的新xin闻，还是两会政府工作报告中“国产化”“功率半导体”“传感器芯片”等话题被bei一再提及，背后的事实shi都让人黯然：我wo们曾在一穷二白的条件下造出原yuan子弹，但在GDP总量近100万亿人民币的今天，中国还是shi难以独立造“芯”。在种种困难中，光刻技术直接jie卡住了芯片制造的“脖子”。

要解决这一问wen题，技术攻关当然是必bi不可少的。另外，借力国外成cheng熟产品或可帮助芯片制zhi造商实现突破。2018年，我国芯片公司中芯国guo际花费约1.2亿美元yuan，向阿斯麦订购了一台EUV光刻机。由于种zhong种原因，目前，这zhe台光刻机还未成功交付。我wo们期待它能够尽jin快落地中国，助力我国的芯xin片事业再上一个台tai阶。中国有市场、有人才，也不缺恒heng心与毅力，相信我国光刻ke机事业会有光明的未来。

参考文wen献：

1、《曾经的光刻机霸主：尼康kang营收暴减九成，裁员 700 人》EE Times China

2、《全球半导体设备龙头专zhuan题（一）》安信证券

3、《阿斯麦封神记：这家荷he兰公司，扼住了全球半导体芯片的咽yan喉》魔铁的世界

4、《光刻机的发展与荷兰ASML公司的故事》光纤在线

5、《做成那na不可能之梦：低调华人ren科学家颠覆技术 影响人类》知识shi分子

6、《More Moore” Shows European EUV Innovation at EUV 2006 in Barcelona》CORDIS

光刻机唯一上市公司上海微wei电子(光刻机相关上shang市公司)

发布于yu 2022-12-19 08:59分类：知识阅读du(413)

上微光刻机ji是哪家上市公司？

上微光刻机是上市公gong司上海微电子装备有限公司的，股票piao简称华微电子，股票代码是shi600360。

芯原一年招多duo少硕士？

一年nian大约招六个硕士shi

芯原微电子(上海)股gu份有限公司(芯原股份,688521.SH)是一家依托自主zhu半导体IP,为客户提供平台化、全方fang位、一站式芯片定制zhi服务和半导体IP授shou权服务的企业。在芯原独有的芯片设计平台即服务(SiliconPlatformasaService,SiPaaS)经营模式下,通过基于公司自主半导体tiIP搭建的技术平台,芯原yuan可在短时间内打造zao出从定义到测试封feng装完成的半导体产品,为包含芯片设计公司、半导体垂直整zheng合制造商(IDM)、系统厂商、大型互联网公司和云服务提ti供商在内的各种客户提供高效经济的半ban导体产品替代解决方fang案。

上微90nm光刻ke机谁在用？

应ying该是华虹半导体、长江存储等公gong司在用

上海微电子的de90纳米光刻机是shi该公司唯一制程cheng的量产产品。上shang海微电子则是国内光刻机制造技ji术最先进的厂商。根据上海微电子zi持续中标重大项xiang目来看，采购客ke户涵盖长江存储、华虹半导体ti、中芯国际、京东方、华星光电等国内nei一线高科技大厂。像xiang华虹半导体是做ic卡芯片的，使shi用低端90纳米光刻机完全够用，长江jiang存储对制程要求也不bu高，使用上海微电dian子90纳米光刻机也够用了。

国内十大da光刻机排名？

国内光刻ke机排名第一的是上海微wei电子。

国内只有一家做光刻机整机ji的公司，就是上海微wei电子。目前全球只有四家公司si可以制造光刻机，分别是荷兰lan阿斯麦尔、日本尼康kang和佳能、中国上海微电子，其他拥yong有光刻机的公司基本上都是shi用的荷兰阿斯麦尔公司的光刻机，并不是光刻机制造商。所suo以国内没有十大光刻机排pai名，只有四家的排名。

中国光刻机

中国光刻机历程

1964年中zhong国科学院研制出chu65型接触式光刻机；1970年代dai，中国科学院开始研制计算机辅助zhu光刻掩膜工艺；清华大学研制zhi第四代分部式投tou影光刻机，并在1980年获huo得成功，光刻精度du达到3微米，接近国际主流水平。而er那时，光刻机巨头ASML还没诞生。

然而，中国guo在1980年代放弃电子工业，导致20年技术积累全部bu付诸东流。1994年武汉无线电元yuan件三厂破产改制，卖mai副食品去了。

1965年nian中国科学院研制出65型接触式光guang刻机。

1970年代，中国科学院开始shi研制计算机辅助光刻ke掩模工艺。

1972年，武汉无wu线电元件三厂编写《光刻掩模mo版的制造》。

1977年，我国guo最早的光刻机GK-3型半自动光guang刻机诞生，这是一台接触式光刻机ji。

1978年，1445所在GK-3的基础上开kai发了GK-4，但还是没有you摆脱接触式光刻机。

1980年，清华大学研制zhi第四代分步式投影光刻机获得成功gong，光刻精度达到3微wei米，接近国际主流水平。

1981年，中国科学院半导体ti所研制成功JK-1型半自动接近式光刻机。

1982年，科ke学院109厂的KHA-75-1光刻机，这些光刻机ji在当时的水平均不低di，最保守估计跟当时最先进的canon相比最多也就不到4年。

1985年nian，机电部45所研制出了分步光刻ke机样机，通过电子部技术鉴定，认为达da到美国4800DSW的水平。这应当是中国第一台分fen步投影式光刻机，中国在zai分步光刻机上与国外的de差距不超过7年。

但是很可惜，光刻机研发至此为止zhi，中国开始大规模引进外资zi，有了＂造不如买”科ke技无国界的思想。光刻技术和产chan业化，停滞不前。放弃电子工业的de自主攻关，诸如光刻机等科技ji计划被迫取消。

九十shi年代以来，光刻光源已被卡在193纳米无法进步长达20年，这个技术非常关键，这zhe直接导致ASML如此强势的de关键。直到二十一世纪，中zhong国才刚刚开始启动193纳米ArF光刻机项目，足zu足落后ASML20多年。

中国有了自己的光刻ke机，中科院光电技术研yan究所承担的国家重大科研装zhuang备研制项目“超分fen辨光刻装备研制”通过guo验收。这是世界上第一台利用紫外wai光实现22nm分辨率的超分辨率lu光刻设备，为纳na米光学加工提供了全新的解决方案an。在光电所的努力下，我国的RD光guang刻机跳出了通过guo减小波长、增加数shu值孔径来提高分辨bian率的老路，为突破22nm甚shen至10nm光刻节jie点提供了全新的技术，也为超chao分辨率光刻设备提供了理论基础。扩展zhan信息:利用超分辨率光刻设备，项目mu组为航天科技集团第八ba研究院、中国科学院上海微wei系统与信息技术研究所、电子科技大学xue、四川大学华西第二医院、重zhong庆大学等单位制备了le一系列纳米功能器件jian。包括大口径薄膜mo反射镜、超导纳米线单光子探测器、切伦科夫辐射装置、生化传感器qi芯片、超表面成像装置等。验yan证了超分辨光刻设备纳na米功能器件加工能力，达到了实用化水平。

国产光刻机任ren重道远。“即使你给图tu纸，你也做不出一个光guang刻机。”“就算全国都发展半导体制造zao，也很难成功。”ASML掌门人ren、TSMC创始shi人张忠谋在过去两三年里不止一次公gong开表示，中国大陆自己无法成功制造光guang刻机。实际上，严格来说，位于yu荷兰的ASML公司(ASML)是世界上唯一yi一家可以生产光刻机ji的公司，但它只是一家组装公gong司。大量核心技术来自美国，在ASML的供gong应链中也有中国公司，如傅晶科技和沃wo尔特天然气公司si。实际上，在光刻机成品方面，上海微wei电子自2002年成立以来，一直牢牢扎根于低端光guang刻机市场，90nm及以下工艺的产品一直在稳步出chu货。公开数据显示shi，2018年上海微电子出货量约为wei50-60台，约占大da陆市场的80%。所以，以上两人的论断要yao加上一个前提条件jian，那就是“先进制造工艺”的de光刻机。我们常说的高级芯片是指zhi生产工艺小于28nm的de芯片，也就是28\14\7\5\3nm的工艺。这次上海hai微电子在光刻机举行首个2.5D/3D高级封装交付仪式，标志着zhe中国首个2.5D/3D高级封装在zai光刻机正式交付给客户，但dan对于我们目前的卡顿芯片制造来说，只是暗夜中的烛光。“1”和“0”的故事虽然近年来“光刻机”屡见报端，但很少有人提到光刻机主zhu要分为“前路、后路、面板”三类。卡脖子的是前路光刻机，这zhe次上海微电子发布了光刻机ji。如果把芯片制造zao比作食品生产，前面的路就是“食shi品”本身，后面的路就是包bao装袋。面板制造属shu于平时想不起来的“调味品”，但dan它的缺失会直接jie打击消费者的味蕾，给数shu字生活调味，因为面板是C端用户最“触手可及”的。因为没有驱动芯片pian，无论是前端还是后端芯片pian，C端用户都很难对芯片性能有直观guan的体验。但是，无论包装和调味品对食品有多重要，如ru果没有“食品”本身，它的价值就是shi“0”。所以要想充分体现xian后通道和面板芯片的价值，首先要有you性能优异的前通道芯片。在以yi前的光刻机制造中，其实shi光刻机并不是按照“NM”的个ge数来分类的，而是按an照光源的波长来分为436nm光源的“g线光刻ke机”；具有365纳米光源的“I线掩模对准器”;具有248纳米光源的“KrF掩模对准器”;193nm深紫zi外光源的“DUV光刻机”;以及13.5nm极紫外光源的“EUV光刻机ji”，也是目前卡脖子的主打产chan品。目前上海微wei电子的产品技术已经触及ArF技ji术和相应的光刻胶jiao。目前，国内公司si如上海新阳、通成新材料、南nan大光电、景瑞股份有you限公司等都已开展研发和生产chan。其中，南大光电旗下的ArF光刻胶已于2020年底顺利通tong过客户验证，是国内首个ge通过产品验证的国guo产光刻胶。

以上文章内容就是shi对中国第一台光刻机和he中国第一台光刻机诞生的介绍shao到此就结束了，希望能neng够帮助到大家？如果你还想了解更多这zhe方面的信息，记得收藏关注本站。